支持7nm!高端DUV光刻机可出口后 ASML加快订单处理

   时间:2023-03-13 08:38 来源:快科技

ASML上周已经声明,高端DUV光刻机可以出口,而这也会让他们加快处理相应的订单。

所谓浸没式光刻机,属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式),可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。

ASML公司官网信息显示,该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备:TWINSCAN NXT:1980Di,TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i,其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。

生机!支持7nm的高端DUV光刻机可以出口:ASML今年要在中国销售162亿元

理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm,只是步骤更为复杂,成本更高,良率可能也会有损失,晶圆厂用这一台光刻机,大多是生产14nm及以上工艺的芯片,很少去生产14nm以下的工艺,因为良率低,成本高,没什么竞争力。

之前,该公司2022年其净销售额为212亿欧元,毛利率为50.5%,2022年底未交付订单创下历史新高,达404亿欧元。当年总共销售317台新光刻机,较前一年增长31台,此外还出货了28台二手光刻机。

对于今年的表现,ASML表示,将会加快对一些订单的处理,特别是高端DUV光刻机系列,以此来保证公司业绩强劲增长。

 
 
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