安徽凌光红外科技有限公司近日宣布，成功研发并推出LUXET VERITAS微光显微镜及激光诱导电阻变化（EMMI+OBIRCH）二合一显微镜，这一创新成果有效填补了国内半导体检测设备领域的空白，为行业技术进步注入新动力。
随着全球半导体产业加速向先进制程迈进，芯片内部结构日益精密复杂，电性失效分析已成为推动芯片研发迭代、提升良率及保障品质的核心环节。传统检测设备因功能单一、集成度低，难以满足全链条检测需求，而LUXET VERITAS二合一显微镜的诞生，恰好解决了这一行业痛点。
该设备深度融合了EMMI微光检测与OBIRCH激光诱导电阻变化两大主流失效分析技术，实现了“一机两用”的高度集成化设计。无论是芯片研发阶段的快速定位，还是量产环节的品质管控，均能提供全面覆盖的检测解决方案，显著提升了检测效率与准确性。
在核心硬件配置上，LUXET VERITAS搭载了深度制冷近红外相机与大口径自研1.35倍物镜，确保了成像的清晰度与稳定性。其EMMI模块具备纳安级微弱漏电定位能力，可高效识别PN结击穿、闩锁效应、栅极氧化层漏电及多晶硅缺陷等典型失效问题，为芯片故障分析提供了精准依据。而OBIRCH模块则采用1300nm标准激光波段与500mW额定功率，实现了pA级超高精度电流放大测量，能够精准排查金属线路、导通孔及接触孔阻值异常等隐蔽缺陷，进一步提升了检测的灵敏度与可靠性。
