在半导体制造领域，英特尔与ASML的合作再度取得重大突破。英特尔Foundry宣布，其正在利用ASML的High NA EUV技术，在Intel 18A工艺节点上生产部分英特尔Core Ultra 3系列处理器。这一举措使英特尔Foundry成为全球首家采用High NA EUV技术大规模生产逻辑产品的企业，标志着半导体制造技术迈向新的高度。
High NA EUV光刻工艺是ASML开发的下一代极紫外光刻技术，旨在实现更精确的芯片图案化，为先进芯片制造提供关键支持。英特尔Core Ultra 3系列处理器代号为Panther Lake，基于Intel 18A工艺构建。通过在该系列处理器的特定层应用High NA EUV技术，英特尔和ASML获得了大量有价值的数据，有助于进一步优化系统设置、运行时间和制造流程，为技术的广泛应用奠定基础。
ASML相关负责人傅恪礼表示，High NA EUV技术的引入是半导体光刻技术的重大进展。随着分辨率和工艺控制能力的提升，这项技术将在推动人工智能及其他新兴技术发展中发挥关键作用，助力实现更小、更密集的芯片模式化。
英特尔Foundry执行副总裁兼总经理Naga Chandrasekaran强调，这一里程碑成果体现了英特尔与ASML之间紧密的技术合作。通过对部分Intel 18A产品层进行High NA EUV工艺资格认证，英特尔现有的工具群能够为客户提供更高的生产效率。同时，英特尔也在积极开发未来方案，以实现未来节点在性能、密度和制造灵活性方面的前沿突破。
回顾双方的合作历程，2024年，英特尔和ASML在俄勒冈州希尔斯伯勒的研发基地成功完成了业界首个商业High NA EUV光刻系统的集成。英特尔Foundry还是首家安装并通过第二代TWINSCAN EXE：5200B验收测试的公司。该型号基于TWINSCAN EXE：5000升级而来，在输出和叠加精度方面均有显著提升，并配备了改进的光源，为半导体制造的高效生产提供了有力保障。
