阿斯麦EUV光刻机助力纳米孔全晶圆制造 分子传感技术迎新进展

   时间:2025-12-22 16:31 来源:快讯作者:顾雨柔

比利时微电子研究中心(IMEC)近日宣布,利用阿斯麦(ASML)的极紫外光刻(EUV)设备,成功实现了全晶圆级纳米孔制造。这一突破被阿斯麦公司公关负责人评价为“生物医学领域的一项意外卓越应用”,标志着分子传感技术迈入新阶段。

纳米孔是一种直径仅数纳米的微小孔道,其尺寸约为人类头发丝的万分之一。这种微观结构在生物医学领域展现出独特价值,其核心原理基于分子与孔道的相互作用:当分子穿过纳米孔时,会引发流经孔道的离子电流波动,而波动特征能够反映分子的尺寸、结构、电荷属性及相互作用方式。通过捕捉这些电信号变化,生物医学传感器可实现高灵敏度分子区分。

基于极紫外光刻技术制备的纳米孔,已成为生物医学传感的“分子关卡”。该技术能够精准检测病毒、蛋白质、DNA等单个分子,为疾病诊断、药物研发及分子级分析提供了关键工具。通过调整固态纳米孔的尺寸,其应用场景还可延伸至过滤技术与分子数据存储领域。比利时微电子研究中心强调,这一突破不仅提升了检测精度,更拓展了纳米孔技术的多功能性。

传统纳米孔制备方法存在明显局限:速度缓慢、依赖实验室环境且成本高昂,导致相关传感器技术长期难以实现规模化应用。而比利时微电子研究中心的最新成果显示,其利用极紫外光刻设备,在300毫米整片晶圆上制备出直径约10纳米的高均匀性纳米孔。这一技术兼具量产化、高精度与可重复性优势,有望打破纳米孔传感器商业化瓶颈,推动生物医学检测技术向更高效、更经济的方向发展。

 
 
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