近期，有关英特尔在2025年Intel Foundry Direct Connect大会上对Intel 14A节点的技术路径保持沉默的消息引起了业界关注。尽管大会未明确透露是否会在该节点引入High NA EUV光刻技术，但代工业务负责人纳加·钱德拉塞卡兰对此话题给出了见解。
据钱德拉塞卡兰透露，英特尔在14A制程的EUV光刻步骤中拥有灵活的选择：可以继续采用传统的Low NA技术，或是部分引入High NA技术。值得注意的是，这两种方案在设计规则层面保持兼容，这意味着无论英特尔最终选择哪条技术路线，都不会对客户产生任何不利影响。
英特尔在俄勒冈州的研发晶圆厂已经成功安装了第二套由ASML提供的High NA EUV光刻系统，并且该系统的表现达到了预期。这一进展标志着英特尔在High NA EUV图案化技术开发方面正稳步迈向量产阶段。同时，英特尔已经掌握了High NA EUV在18A和14A节点上的相关数据，为未来的生产奠定了坚实基础。
